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【简答题】

简述在先进的CMOS工艺中，离子注入的应用。

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[单选题] 在较先进的集成电路制造工艺中，通常采（）来实现掺杂。

A、刻蚀 B、离子注入 C、光刻 D、金属化

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第2题

[简答题] 简述离子注入工艺相对于热扩散工艺的优缺点。

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第3题

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第4题

[简答题] 在较先进的CMOS工艺中，为什么采用多层布线，请说明原因？

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第5题

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第6题

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第7题

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第8题

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