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【简答题】
在较先进的CMOS工艺中,为什么采用多层布线,请说明原因?
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更多“在较先进的CMOS工艺中,为什么采用多层布线,请说明原因?”相关的问题
第1题
[单选题]
在
较
先进
的
集成电路制造
工艺
中
,通常采()来实现掺杂。
A、刻蚀 B、离子注入 C、光刻 D、金属化
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第2题
[]
为
什么
近代轿车汽油机普遍
采用
多气门机构?它有
什么
优缺点?柴油机
为
什么
较
少
采用
多气门?2气门改为4气门时,
为
什么
功率上升
的
百分比要比转矩增加
的
百分比大得多?
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第3题
[简答题] 简述在
先进
的
CMOS
工艺
中
,离子注入
的
应用。
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第4题
[简答题]
为
什么
在
较
高电压(35kV以上)
的
配电装置
中
使用圆形汇流排?
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第5题
[简答题]
先进
的
程控数字交换机应
采用
哪种控制方式?
为
什么
?
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第6题
[简答题]
为
什么
MIG焊铝
的
工艺
难题
较
多?
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第7题
[简答题] 简述
采用
加工
中
心加工质量要求
较
高
的
零件
中
,
为
什么
要分粗、精加工两个阶段进行?
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第8题
[简答题]
什么
是逆铣?
什么
是顺铣?试分析其
工艺
特点。在实际
的
平面铣削生产
中
,多
采用
哪种铣削方式?
为
什么
?
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第9题
[简答题] 请回答.077%碳钢和1.%碳钢
的
细化晶粒温度。例如:一批碳钢试样组织晶粒大小不均匀,需
采用
退火处理。应
采用
的
工艺
设计应该是:缓慢加热至500~650℃,保温足够时间,随炉冷却至室温。问:
为
什么
要保温足够
的
时间,
为
什么
要缓慢冷却?
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