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【判断题】

离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。

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第1题

[] 试样镀膜的方法没有以下哪一项（）

A、A.真空镀膜 B、B.离子溅射镀膜 C、C.化学镀膜 D、D.氧化镀膜

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第2题

[] 离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。

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第3题

[] 简述溅射镀膜的特征

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第4题

[简答题] 简述溅射与离子束铣蚀。

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第5题

[] 离子束加工时，由于离子质量大，当速度高、能量大时，垂直撞击时离子可注入工件材料内部，称（）。当速度低、能量小时，离子可以溅射镀覆在工件表面，称（）。当能量速度（）而倾斜撞击工件时，可将工件表面的分子，原子撞击出去，一层一层的剥离下来，称为（）加工或（）加工。

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第6题

[简答题] 简述常见的溅射镀膜方法

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第7题

[简答题] 什么是离子镀膜？其一般流程及工作原理是什么？

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第8题

[单选题] 集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）

A、溅射物理气相沉积 B、蒸发物理气相沉积 C、等离子增强化学气相沉积 D、低压化学气相沉积

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第9题

[] 下列不属于离子束加工技术的是（）。

A、A.离子束刻蚀 B、B.离子束焊接 C、C.离子注入技术 D、D.离子束镀膜技术

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