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【简答题】

简述常见的溅射镀膜方法

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第1题

[] 试样镀膜的方法没有以下哪一项（）

A、A.真空镀膜 B、B.离子溅射镀膜 C、C.化学镀膜 D、D.氧化镀膜

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第2题

[] 简述溅射镀膜的特征

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第3题

[判断题] 离子溅射镀膜与离子镀过程原理是一样的。

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第4题

[简答题] 为溅射做一个简短的解释，并描述它的工作方式？溅射适合于合金淀积吗？溅射淀积的优点是什么？

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第5题

[] 离子注入的能量远低于离子刻蚀和离子溅射沉积。

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第6题

[简答题] 真空蒸发镀膜方法常见加热方式有哪些？

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第7题

[] 下列选项（）是甲类洁净厂房。

A、A.微型轴承装配的精研间、装配前的检查间 B、B.胶片厂的洗印间 C、C.计算机房记录数据的磁盘储存间 D、D.液晶显示器件工作的溅射间、彩膜检验间

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第8题

[单选题] （）滤镜可以在前景色和背景色的交界处生成溅射分裂，类似撕纸的效果。

A、撕边 B、凸出 C、涂抹棒 D、便条纸

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第9题

[单选题] 集成电路生产中，金属薄膜的沉积通常采用（）

A、溅射物理气相沉积 B、蒸发物理气相沉积 C、等离子增强化学气相沉积 D、低压化学气相沉积

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