题目内容 (请给出正确答案) 提问人:网友 发布时间: 【单选题】 集成电路生产中,金属薄膜的沉积通常采用() A、溅射物理气相沉积B、蒸发物理气相沉积C、等离子增强化学气相沉积D、低压化学气相沉积 查看正确答案