首页
>
集成电路技术模拟试题
>
集成电路工艺原理模拟试题
>
述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻...
搜题
搜题
用户
您好, 请在
下方输入框内
搜索其它题目:
搜题
题目内容
(请给出正确答案)
提问人:网友
发布时间:
【简答题】
简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。
查看正确答案
更多“简述什么是光刻胶、光刻胶的用途、光刻对光刻胶的要求。”相关的问题
第1题
[简答题]
什么
是
负
胶
分辨率
的
限制,哪种
胶
应用在亚微米
光刻
胶
中?
点击查看答案
第2题
[简答题] 给出硅片制造中
光刻
胶
的
两种目
的
。
点击查看答案
第3题
[简答题] 列出并描述I线
光刻
胶
的
4种成分。
点击查看答案
第4题
[简答题] 如果
光刻
胶
对光
的
吸收过多侧墙会怎样?
点击查看答案
第5题
[]
简述
有
光刻
胶
覆盖硅片
的
三个生产区域。
点击查看答案
第6题
[简答题]
光刻
胶
厚度随
什么
变化?
点击查看答案
第7题
[简答题] 二氧化硅,铝,硅和
光刻
胶
刻蚀分别使用
什么
化学气体来实现干法刻蚀?
点击查看答案
第8题
[简答题]
简述
接触式
光刻
、接近式
光刻
及投影式
光刻
的
优缺点。
点击查看答案
第9题
[简答题] 典型
的
DUV
光刻
胶
曝光剂量
的
宽容度
是
多少?
点击查看答案
账号:
登录
答题记录
我的收藏
我的题库
客服
TOP
请使用微信扫码支付
订单号:
遇到问题请联系
在线客服