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【问答题】
简述有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域。
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第1题
[简答题]
简述
什么是
光刻
胶
、
光刻
胶
的
用途、
光刻
对
光刻
胶
的
要求。
点击查看答案
第2题
[简答题] 给出
硅片
制造中
光刻
胶
的
两种目
的
。
点击查看答案
第3题
[单选题] 发泡时需要将线束竖起，倒发泡
胶
的
同时需要将线束左右晃动使发泡
胶
流入线束
的
各个缝隙中，待发泡
胶
固化后涂抹221
胶
，涂抹时注意将上线口
的
胶
皮
区域
（）。
A、1/2
覆盖
B、完全
覆盖
C、基本
覆盖
D、部分
覆盖
点击查看答案
第4题
[简答题] 什么是负
胶
分辨率
的
限制，哪种
胶
应用在亚微米
光刻
胶
中？
点击查看答案
第5题
[简答题]
简述
接触式
光刻
、接近式
光刻
及投影式
光刻
的
优缺点。
点击查看答案
第6题
[简答题] 典型
的
DUV
光刻
胶
曝光剂量
的
宽容度是多少？
点击查看答案
第7题
[简答题] 列出并描述两种主要
的
光刻
胶
。
点击查看答案
第8题
[简答题] 如果
光刻
胶
对光
的
吸收过多侧墙会怎样？
点击查看答案
第9题
[简答题] 解释
光刻
胶
选择比，要求
的
比例是高还是低？
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