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【简答题】

二氧化硅,铝,硅和光刻胶刻蚀分别使用什么化学气体来实现干法刻蚀?

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第1题

A、二氧化硅、活性炭粘土  B、聚丙烯酰胺、活化硅以及骨  C、聚丁乙烯、活性炭二氧化硅  D、甲苯、硫化铁  

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第2题

A、氧化钛  B、二氧化硅  C、氧化  D、三氧化二铁  

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第3题

A、金属皂、硅油、二氧化硅  B、乙醇、金属皂、硅酸盐  C、金属皂、硅油、氧化磷  D、乙醇、硅油、二氧化硅  

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第5题

A、含游离二氧化硅10%以上、粉尘浓度大于2mg/m3  B、含游离二氧化硅10%以下、粉尘浓度大于10mg/m3  C、含游离二氧化硅10%以上、粉尘浓度大于2mg/m3或含游离二氧化硅10%以下、粉尘浓度大于10mg/m3  

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第6题

A、二氧化硅  B、铜  C、  D、锡  

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