A、物理气相沉积 B、化学气相沉积 C、电化学镀 D、热氧化
A、溅射物理气相沉积 B、蒸发物理气相沉积 C、等离子增强化学气相沉积 D、低压化学气相沉积
A、物理气相沉积（PVD） B、物理气相沉积（CVD） C、化学气相沉积（VCD） D、化学气相沉积（CVD）
A、高温烧结和高温高压烧结 B、化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD） C、热压法（HP）和热等静压法（HIP） D、电镀法和电铸法
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