A、采用常规设计的布图设计
B、布图设计的设计思想
C、未经登记的布图设计
D、具有独创性的布图设计
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A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计 B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制 C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用 D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
A、为个人目的或单纯为评价、分析、研究、教学目的而复制受保护的布图设计 B、未经许可，复制受保护的布图设计的全部或任何具有独创性的部分 C、在分析研究受保护的布图设计基础上，创作出具有独创性的布图设计 D、未经许可，为商业进口，销售受保护的布图设计
A、A.首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人 B、B.其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人 C、C.其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人 D、D.首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标
A、保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起（以较前日为准）计算时，布图设计专利权保护期为10年 B、布图设计自创作完成之日起算时，保护期为15年 C、布图设计自登记证书颁发日起算，保护期为10年 D、布图设计自产品投入商业利用日起，保护期为15年
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