布图设计已经投入商业利用的,在申请布图设计登记之时,申请人应该提交含有该布图设计的()。
A、文字资料
B、集成电路样品
C、设计原稿
D、布图设计图纸
A、文字资料
B、集成电路样品
C、设计原稿
D、布图设计图纸
A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计 B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制 C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用 D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
A、A.首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人 B、B.其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人 C、C.其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人 D、D.首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标
A、保护期自登记申请日或世界任何地方首次投入商业利用之日起(以较前日为准)计算时,布图设计专利权保护期为10年 B、布图设计自创作完成之日起算时,保护期为15年 C、布图设计自登记证书颁发日起算,保护期为10年 D、布图设计自产品投入商业利用日起,保护期为15年