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提问人:网友 发布时间:
【多选题】

布图设计权产生的形式条件包括()。

A、布图设计必须投入商业实施

B、布图设计必须具有新颖性

C、布图设计必须固化到集成电路芯片中

D、必须办理有关登记手续

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第1题

A、该设计必须投入商业实施  B、受保护设计必须固化到集成电路芯片中  C、设计应具有独创性  D、受保护设计必须办理登记手续  

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第2题

A、A.该设计必须由个人对立创造  B、B.该设计必须投入商业实施  C、C.受保护设计必须固化到集成电路芯片中  D、D.受保护设计必须办理登记手续  

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第4题

A、采用常规设计设计  B、设计设计思想  C、未经登记设计  D、具有独创性设计  

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第6题

A、甲单纯为评价、分析目而复制受保护设计  B、乙对受保护设计中某些具有独创性部分进行复制  C、丙将设计专有人投放市场含有受保护设计集成电路再次进行商业利用  D、丁将自己独立创作与受保护设计相同设计投入商业利用  

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第8题

A、著作  B、集成电路设计  C、商号  D、制止不正当竞争利  

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第9题

A、为个人目或单纯为评价、分析、研究、教学目而复制受保护设计  B、未经许可,复制受保护设计全部或任何具有独创性部分  C、在分析研究受保护设计基础上,创作出具有独创性设计  D、未经许可,为商业进口,销售受保护设计  

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