【多选题】
关于布图设计权产生的形式条件,通常包括()。
A、该布图设计必须投入商业实施
B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C、布图设计应具有独创性
D、受保护的布图设计必须办理登记手续
A、该布图设计必须投入商业实施
B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
C、布图设计应具有独创性
D、受保护的布图设计必须办理登记手续
A、甲单纯为评价、分析目的而复制受保护的布图设计 B、乙对受保护的布图设计中某些具有独创性的部分进行复制 C、丙将布图设计专有权人投放市场的含有受保护布图设计的集成电路再次进行商业利用 D、丁将自己独立创作的与受保护的布图设计相同的布图设计投入商业利用
A、A.首先把其布图设计在中国投入商业利用的外国人 B、B.其所属国与中国签有布图设计保护协议的外国人 C、C.其所属国与中国参加布图设计保护国际条约的外国人 D、D.首先在中国办理布图设计登记手续的外国人标