【单选题】
现代集成电路制造工艺中，主流掺杂技术为（）
A、扩散
B、化学机械抛光
C、刻蚀
D、离子注入
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第8题
A、集成电路中元器件的性能比较一致，对称性好，适于作差动放大电路 B、由于制造三极管比制造电阻器节省硅片，且工艺简单，故集成电路中三极管用得多，电阻用得少 C、集成电路中的电容是用PN结的结电容，一般小于100PF D、集成电路中的三极管是低频小功率管 E、集成电路中的二极管是高性能管
