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提问人:网友 发布时间:
【单选题】

根据IPIC条约的规定,对于布图设计的“原创性”要求是高于著作权对()保护的独创性的要求,低于专利对组合发明的创造性的要求。

A、文学作品

B、计算机软件

C、植物新品种

D、汇编作品

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第1题

A、A.首先把其设计在中国投入商业利用外国人  B、B.其所属国与中国签有设计保护协议外国人  C、C.其所属国与中国参加设计保护国际条约外国人  D、D.首先在中国办理设计登记手续外国人标  

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第2题

A、甲单纯为评价、分析目而复制受保护设计  B、乙对受保护设计中某些具有独创性部分进行复制  C、丙将设计专有权人投放市场含有受保护设计集成电路再次进行商业利用  D、丁将自己独立创作与受保护设计相同设计投入商业利用  

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第3题

A、设计  B、掩模作品  C、拓扑  D、电路  

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第4题

A、提交设计登记申请表  B、提交设计复制件或样  C、已投入商业利用,提交4件集成电路样品  D、说明书  

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第5题

A、该设计必须投入商业实施  B、受保护设计必须固化到集成电路芯片中  C、设计应具有独创性  D、受保护设计必须办理登记手续  

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第8题

A、A.该设计必须由个人对立创造  B、B.该设计必须投入商业实施  C、C.受保护设计必须固化到集成电路芯片中  D、D.受保护设计必须办理登记手续  

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第9题

A、A.设计权利人  B、B.使用者  C、C.受益人  D、D.社会大众  

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