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【判断题】

电子束光刻主要用于制作掩膜。

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第2题

A、子束电流强度  B、焊接速度  C、加速电压  D、工件表面状态  

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第4题

A、子束无明显建成效应  B、子束的皮肤剂量较高  C、子束的照射范围平坦  D、子束射程较短  E、子束容易被散射  

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第5题

A、子束治疗技术难度小,近距离治疗技术难度大  B、子束的剂量较复杂  C、子束治疗是一次照射,近距离治疗可分割照射  D、子束治疗的合并症较多,近距离治疗合并症较少  E、子束治疗的成本较高,近距离治疗的成本较低  

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第6题

A、丙种射线  B、甲种射线  C、低能量子束  D、高能量子束  E、乙种射线  

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第7题

A、子束在变化电场的作用下运动  B、子束在变化磁场的作用下运动  C、子束在重力作用下运动  D、子束在引力作用下运动  

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第8题

A、较高能量的子束,照射野对百分深度剂量无影响  B、较低能量的子束,照射野对百分深度剂量无影响  C、较低能量的子束,较大照射野对百分深度剂量影响较大  D、较高能量的子束,较大照射野对百分深度剂量影响较大  E、较高能量的子束,较小照射野对百分深度剂量影响较大  

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第9题

A、A.高能X(γ)射线与低能X射线  B、B.高能X(γ)射线与子束  C、C.低能X射线与子束  D、D.高能X射线  E、E.低能X射线  

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