A、挑点
B、右弯勾
C、竖平勾
D、竖勾
A、基托的唇颊侧边缘伸展至黏膜转折处，不妨碍唇颊的正常活动 B、下颌基托的舌侧边缘伸展至舌侧黏膜转折处，不妨碍舌的正常活动 C、上颌基托的后缘伸展至翼上颌切迹，远中颊侧盖过上颌结节 D、上颌基托后缘中分伸展至腭小凹 E、下颌基托后缘应覆盖磨牙后垫1/3～1/2
A、缓慢增大刺激强度，在伪迹后出现双相动作电位 B、记录到的双相动作电位的负相和正相波为对称的波形 C、伪迹太大，会使动作电位发生畸变 D、伪迹至动作位起始的转折处之间的时间为潜伏时
A、相同焊缝 B、不同焊缝 C、环形焊缝 D、3/4环形焊缝
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