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【简答题】
试就高温、低温、高密度、低密度等离子体各举一例。
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更多“试就高温、低温、高密度、低密度等离子体各举一例。”相关的问题
第1题
[简答题] 氩
等
离子
体
密度
, 电子温度,
离子
温度, 存在恒定均匀磁场B=800 Gauss,求 (1)德拜半径; (2)电子
等
离子
体
频率和
离子
等
离子
体
频率; (3)电子回旋频率和
离子
回旋频率; (4)电子回旋半径和
离子
回旋半径。
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第2题
[简答题] 为什么0.25微米以下工艺的干法刻蚀需要
高
密度
等
离子
体
?
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第3题
[简答题] 一个截面为正方形(边长为a)长方体放电容器内,纵向电场维持了定态
等
离子
体
,设直接电离项为,并忽略温度梯度效应,求: (1)在截面内
等
离子
体
密度
分布和电离平衡条件: (2)设纵向电流
密度
为,给出穿过放电室截面的总电流表达式。
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第4题
[简答题] 在
等
离子
体
中通上电流,可以通过欧姆加热效应使
等
离子
体
温度升
高
。但欧姆加热手段对
高
温
等
离子
体
不再适用,请考虑其原因及相关的过程。
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第5题
[填空题]
等
离子
增强反应沉积中,由于
等
离子
体
中()、()和()相互碰撞,可以大大降
低
沉积温度,例如硅烷和氨气的反应在通常条件下,约在850℃左右反应并沉积氮化硅,但在
等
离子
体
增强反应的条件下,只需在350℃左右
就
可以生成氮化硅。
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第6题
[判断题]
等
离子
喷涂技术利用
等
离子
弧电流
密度
大、温度
高
、能量集中等优点,作为热源对工件表面热源喷涂
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第7题
[单选题] ICP—AFS是指ICP光谱分析仪器中的哪种类型()
A、
等
离子
体
原子发射光谱 B、
等
离子
体
原子吸收光谱 C、
等
离子
体
原子荧光光谱 D、
等
离子
体
质谱
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第8题
[] 无磁场的
等
离子
体
中所传播的波频率必须
高
于
等
离子
体
频率,但在有磁场的情况下,出现了一些
低
于
等
离子
体
频率的传播模式,请分析其中的奥秘。
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第9题
[简答题] 过氧化氢
低
温
等
离子
体
灭菌不适用于哪些材质的物品灭菌?
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