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【简答题】

如何利用CVD制备金属间化合物薄膜？

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第1题
[简答题] 在金属间化合物的制备方法中，单晶化合物的制备方法与定向凝固法有何异同？

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第2题
[单选题] 利用气态化合物（或化合物的混合物）在基体受热表面发生化学反应，并在该基体表面生成固态沉积物的技术称（）。

A、物理气相沉积（PVD）  B、物理气相沉积（CVD）  C、化学气相沉积（VCD）  D、化学气相沉积（CVD）  

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第3题
[填空题] 用自蔓延高温合成技术可制备许多新型材料，如（）、（）、单晶体超导材料、各向异性材料、金属间化合物及金属陶瓷等复合材料。

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第4题
[] 稀土金属主要以（Ⅲ）氧化态的化合物形式存在，经富集后，通常可以通过熔融电解法制备纯金属或混合金属，一般采用什么化合物作为电解质？

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第5题
[] 专利申请要求保护一种化合物X，如果对比文件公开了与本申请化合物X的相同制备方法，则推定化合物X不具备新颖性。

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第6题
[判断题] 对于两种化合物而言，只要它们的制备方法相同，审查员就可推定它们是相同的化合物。在分子式（或结构式）不明的情况下，只要它们的理化参数或鉴定化合物用的其它参数相同，审查员也可推定它们是相同的化合物。

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第7题
[判断题] 有机金属化合物的毒性大于无机金属化合物。

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第8题
[] 典型金属元素和典型非金属元素形成的化合物都是离子型化合物。

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第9题
[简答题] 如何除去液体化合物中的有色杂质？如何除去固体化合物中的有色杂质？除去固体化合物中的有色杂质时应注意什么？

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