A、反应罐 B、氨水罐 C、浸溶塔 D、沉淀罐
A、85℃ B、40℃ C、120℃ D、20℃
A、加入HCl溶液 B、加入AGNO3溶液 C、加入浓氨水 D、加入NaCI溶液
A、预脱硅 B、脱硅 C、再生 D、酸洗
A、10m2 B、100m2 C、52m2 D、80m2
A、降低溶液浓度便于晶种分解 B、使溶液进一步脱硅 C、便于赤泥分离 D、稳定沉降槽的操作
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