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【单选题】

晒版曝光时应考虑（）

A、印纹放置位置

B、被印物种类

C、涂布的精密度

D、成本

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第1题

[] 翻转型晒版机又可称为双面晒版机，它的装版准备和曝光可同时交替运行，工作效率高，封闭遮光性能好。

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第2题

[单选题] 平版晒版时，PS版与底片药膜相对是为了（）。

A、防止不应曝光的部位曝光 B、保证印版与底片密合 C、减少曝光时间 D、防止印版药膜发生化学反应

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第3题

[单选题] 晒版后（）无图纹潜像。

A、过度曝晒 B、曝光不足 C、未晒版前曝光 D、未放置底片

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第4题

[单选题] 晒版前发现底片有瑕疵应（）

A、重新制作或修正底片 B、制版后修正 C、减少曝光时间 D、加强曝光时间

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第5题

[单选题] 晒版前如发现版膜厚度不足，应（）

A、加强曝光时间 B、再行烘干 C、减少曝光时间 D、再行涂布感光乳剂

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第6题

[] 阳图晒版时，若网点黑度较低，其网点部位也会透过一定量的光能而非完全不透光，使本该不曝光的部位也产生了部分曝光，导致印版的耐印力降低。

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第7题

[] 比曝光测试表细小图纹晒版时可（）

A、A.加长曝光时间 B、B.略少于测试标准时间 C、C.维持测试标准时间

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第8题

[单选题] 晒版中如发现曝光时间不足应（）。

A、补足曝光 B、已无法补救 C、放置一段时间后再冲版 D、涂布感光剂补强

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第9题

[单选题] 晒版时间完成时应先（）

A、关掉电源立即开启晒版机 B、关掉电源并等排气后再行开启晒版机 C、电源无需切断等排气即可 D、先排气再关电源即可取版

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