【填空题】
A、A.用高能电子束轰击金属靶 B、B.将物质用初级X射线照射以产生二级射线 C、C.利用放射性同位素源衰变过程产生的X射线发射 D、D.从同步辐射加速器辐射源获得
A、标识X射线的产生与高速电子的能量无关。 B、标识X射线是高速电子与靶物质轨道电子相互作用的结果。 C、滤过使标识X射线变硬。 D、标识X射线的波长由跃迁电子的能级差决定。 E、靶物质原子序数越高,标识X射线的能量就越大。
A、连续放射是高速电子与核外电子作用的结果 B、X 射线靶采用钨,是因为钨的熔点高 C、特征X射线能量取决于靶原子结构 D、钨靶X射线管,管电压低于60kV,不产生K系特征X射线 E、X 射线产生效率,正比于管电压
A、连续X射线是高速电子与靶物质的原子核电场相互作用的结果。 B、连续X射线是高速电子与靶物质轨道电子相互作用的结果。 C、连续X射线的质与管电流无关。 D、连续X射线的最大能量决定于靶物质的原子序数。 E、连续X射线的最大能量决定于管电压。