搜题
用户您好, 请在下方输入框内搜索其它题目:
搜题
题目内容 (请给出正确答案)
提问人:网友 发布时间:
【单选题】

UV上光后不易烫金,是因为()。

A、UV光油中含有硅

B、UV光油光滑性更好

C、UV光油耐磨性更好

D、UV光油中连结料成分不一样

更多“UV上光后不易烫金,是因为()。”相关的问题
第1题

A、包括覆膜费、过油费和局部UV上光费  B、覆膜费、过油费一般按幅面大小计算  C、覆膜费一般按幅面大小计算  D、过油费参照印刷费计价方式按专色印刷费来计算  E、局部UV上光按被处理的图文面积大小计算  

点击查看答案
第2题

A、叠印、陷印  B、烫金、烫银  C、起鼓、压凹  D、局部UV  

点击查看答案
第4题

A、给料解卷部  B、印刷部  C、干燥部  D、收料复卷部  E、其他(包括涂布、上光部、烫金部、打孔部、横切部、废料复卷部)  

点击查看答案
第5题

A、烫金-漏印-喷涂  B、喷涂-漏印-烫金  C、漏印-烫金-喷涂  D、漏印-喷涂-烫金  

点击查看答案
第6题

A、烫金-漏印-喷涂  B、喷涂-漏印-烫金  C、漏印-烫金-喷涂  D、漏印-喷涂-烫金  

点击查看答案
第8题

A、所用的石炭酸浓度过高,不易被脱色  B、结核分枝杆菌合脂质较多,盐酸酒精不易使之脱色  C、脱色所用盐酸酒精PH过低,不易使结核分枝杆菌脱色  D、美蓝不能用于染细菌  E、结核分枝杆菌细胞壁含糖多,不易被酒精脱色  

点击查看答案
第9题

A、A.水解产生还原糖,影响氧化-还原滴定  B、B.Mg2+的存在,对配位滴定有干扰  C、C.硬脂酸根离子消耗HClO4,对非水滴定有干扰  D、D.不易溶于水,使溶液浑浊,对分光光度法、比旋度法、比浊法测定有干扰  E、E.有UV吸收,对UV法测定有干扰  

点击查看答案
客服
TOP

请使用微信扫码支付

订单号:
遇到问题请联系在线客服