A、300
B、400
C、450
D、500
A、550±50 B、500±50 C、450±50 D、400±50
A、蒸汽 B、氧气 C、氩气 D、氮气
A、蒸汽 B、氧气 C、氩气 D、氮气 E、焦炉煤气
A、转炉容量 B、氧枪结构 C、供氧强度 D、供氧用时
A、1 B、2 C、8 D、10
A、槽外待机 B、槽内待机 C、烘烤位 D、处理枪位
A、采用气孔率高,表面积大的活性石灰 B、增加助熔剂用量 C、执行合理控制枪位和氧压 D、合理控制枪位和氧压
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