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提问人:网友 发布时间:
【单选题】

测得H2在洁净的金属W表面上吸附热为150.6kJ/mol,&#8194;而H2的解离能为436kJ/mol,&#8194;而用H原子在W表面上吸附时,吸附热为293kJ/mol,则H<sub>2</sub>在W表面上吸附性质为:()

A、原子态吸附,生成吸附共价键

B、原子态吸附,生成离子键

C、分子态吸附,生成氢键

D、分子态吸附,生成吸附配位键

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第3题

A、A.吸附作用力为范德华力  B、B.为单分子层吸附  C、C.吸附与化学反应相当  D、D.吸附有选择性  

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第7题

A、金属活动性A>B  B、还原性B>A  C、后者装置中金属A发生还原反应,金属B发生氧化反应  D、金属B表面明显有气泡产生,金属A表面无明显现象  

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第8题

A、按边界膜形式分为吸附膜和反应膜  B、物理吸附膜受产生脱吸,所以不稳定;而化学吸附膜和化学反应膜受不产生脱吸,所以它们比物理吸附膜稳定  C、物理吸附膜是润滑剂种极性分子靠静电吸附摩擦表面形成极薄边界膜  D、化学吸附膜是润滑剂种极性分子靠化学键力吸附金属表面时形成边界膜  

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